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等離子去膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面清洗和去膠的設(shè)備。其基本原理是通過氣體放電產(chǎn)生等離子體，這些高能粒子能夠解離化學(xué)鍵、改變分子結(jié)構(gòu)，從而有效去除硅片、玻...
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一、小型等離子清洗機(jī)概述它是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的精密設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療器械、新能源、航空航天等領(lǐng)域。與傳統(tǒng)清洗方式相比，它以低溫、高效、環(huán)保的特點(diǎn)，成為現(xiàn)代工業(yè)表面處理的核心工具之一。其核心優(yōu)勢在于能在不損傷材料的前提下，實(shí)現(xiàn)納米級清潔、活化、刻蝕等功能。二、小型等離子清洗機(jī)的核心優(yōu)勢1.高效清潔能力納米級清潔：等離子體中的高能粒子可分解有機(jī)物、氧化物等污染物，達(dá)到分子級清潔效果，適用于光學(xué)鏡片、芯片等高精度器件。無殘留處理：避免化學(xué)溶劑清洗導(dǎo)致的二次...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時(shí)，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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